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  • uv光(guāng)氧催化設備
    uv光(guāng)氧催化設備

    uv光(guāng)氧催化設備設備占地面積小,自(zì)重輕:适合于布置緊湊、場地狹小等特殊條件(jiàn),設備占地面積<1平方米/處理(lǐ)10000m3/h風(fēng)量。

    更新日(rì)期:2024-04-05訪問(wèn)量:1470
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  • uv光(guāng)氧催化廢氣處理(lǐ)設備
    uv光(guāng)氧催化廢氣處理(lǐ)設備

    uv光(guāng)氧催化廢氣處理(lǐ)設備惡臭氣體(tǐ)無需進行特殊的預處理(lǐ),如(rú)加溫、加濕等,設備工(gōng)作(zuò)環境溫度在攝氏-30℃-95℃之間,濕度在30%-98%、PH值在2-13之間均可(kě)正常工(gōng)作(zuò)。

    更新日(rì)期:2023-08-31訪問(wèn)量:1306
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  • uv光(guāng)氧廢氣處理(lǐ)設備
    uv光(guāng)氧廢氣處理(lǐ)設備

    uv光(guāng)氧廢氣處理(lǐ)設備适應性強:可(kě)适應高濃度,大(dà)氣量,不同惡臭氣體(tǐ)物質的脫臭淨化處理(lǐ),可(kě)每天24小時連續工(gōng)作(zuò),運行穩定可(kě)靠。

    更新日(rì)期:2023-08-31訪問(wèn)量:842
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